我室逐步完善激光器、探测器工艺线
为了满足科研需要，我室在逐步完善激光器和探测的的工艺线。
目前我室拥有的设备列表如下：
生长设备：
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我室成功研制635nm光纤输出4W耦合模块
635nm的半导体激光器主要应用于医疗和激光显示，目前市场上635nm大功率激光器并不多见。
我室成功自主研制的63...
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我室新添FTK烧结设备
FINEPLACER lambda
多用途亚微米贴片机
FINEPLACER® lambda是一款极具灵活性的多用途亚微米贴片机，适用于各...
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我室新添反应离子刻蚀设备
背景:
设备为Samco 10NR，其原理是利用含有F基的等离子体与SIO2及SINx进行反应，达到刻蚀的目的。本设备所提供的气...
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我室新增添ICP刻蚀机（OXFORD ICP 180）
背景:
通入反应气体使用电感耦合等离子体辉光放电将其分解，产生的具有强化学活性的等离子体在电场的加速作用下...
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我室更新光刻设备---六英寸双面对准光刻机（SUSS MA6/BA6）
背景
SUSSMA6光刻机是设计用于实验室研发，小批量生产的高分辨率光刻系统。该光刻机供了最好的基片适应性，可夹...
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